国家知识产权局信息显示，深圳新宙邦科技股份有限公司申请一项名为“一种铜系金属膜与非晶硅膜同步蚀刻的蚀刻液组合物”的专利，公开号CN121718879A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种铜系金属膜与非晶硅膜同步蚀刻的蚀刻液组合物，包括过氧化氢、氟化物、含氟表面活性剂、酰胺类化合物、含氮杂环类化合物、羟基酸或羰基酸类化合物、醇胺类化合物和水；所述蚀刻液组合物满足：0.1≤M+N≤1，2≤N/M≤5。本发明以过氧化氢、氟化物、含氟表面活性剂、酰胺类化合物、含氮杂环类化合物、羟基酸或者羰基酸类化合物、醇胺类化合物为主要成分，并限定氟化物和含氟表面活性剂的含量关系，通过原料之间的协同作用，使得蚀刻液组合物在使用寿命的初、中、末期均可保持优良的蚀刻特性，起到控制半导体非晶硅膜蚀刻的作用，省去常规制造工艺中后续一步的干刻非晶硅膜步骤，大大提高了生产制造效率，降低制造成本。
天眼查资料显示，深圳新宙邦科技股份有限公司，成立于2002年，位于深圳市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本74777.9091万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳新宙邦科技股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目29次，财产线条，此外企业还拥有行政许可72个。
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